양자팹 소개
개요
Quantum-Nano FAB Center
| 소속 | 구분 | 인원(명) | 위치 | 클린룸 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 울산과학기술원 연구장비교육·지원처 공정가공지원팀 |
양자나노팹 |
총괄(팀장) : 1
공정 전담 : 9 |
울산과학기술원
108동 B1 |
면적 | 청정도 | 온도 | 습도 |
| 1,300 ㎡ (서브팹 1,300 ㎡) |
1000 class /
100 class |
22 ℃ | 55 % | ||||

Wet station
Acid I Solvent I Alkali
Thinfilm & Etch
P-CVD I ALD I
CCP etcher
Diffusion
Wet & Dry furnace
Packaging
Dicing saw I CMP
Photo
Photo lithography
Spin coater & Bake
Thinfilm
PVD I Sputter I
E-beam evaporator
Thinfilm & Etch
Sputter I ICP-RIE
Etch
RIE I Deep etcher
Photo
Photo lithography
Sub-Fab
Utility I Vacuum pump
Exhaust system Scrubber
사용자 중심의 개방형 팹 운영
해당 교육 선택 / 신청
- 경력 : 최소 5년 ~ 최대 28년
- 석/박사 이상 50%
- 연구장비 기술 지원, 교육, 시설관리
검증된 Self-User 시스템
- 연간 19,000건 이상 직접 사용
- 가동시간 기준, 사용자 직접 ( 자율 ) 장비 사용률 80.8% ( 2025년 )
- 24시간 직접 사용 가능
안전 관리 강화
- 월 2회 안전교육 진행
- 안전 모니터링, 출입통제 시스템 운영
- 일과 외 이용 시, 2인 1조 출입 및 사전 승인 필수
인프라 고도화
- 연구 장비 현황 ( 2025년 기준 ) : 60여종 200억원
- 2024년 개방형 양자공정 인프라 구축 과제 선정 : 200억원 규모의 공동활용 연구장비 인프라 구축 진행중( ~2031년 )
체계적 교육 프로그램
- 개별 장비 주 1회 정기교육 ( 389회, 2025년 )
- 필요시 수시교육
- 총 1,435회 진행/2025년 ( 전년 대비 283회 증가 )
외부 사용자 지원
- 원거리 외부연구자 체류 ( 게스트 하우스 ) 사용 지원
- 사무 공간 및 대기 장소 제공
- 장비 예약 시스템, 장비 사용 교육
- 자격 획득 시, 장비 직접 사용 가능
시설·장비 / 지원체계

Control Room

Tour Course

Tour Course

Smock Room

Corridor

Wet Room

Yellow Room #1

Yellow Room #2

Yellow Room #3

White room #1

White room #2

White room #3

White room #4

White room #5

Sub Fab

리소그래피 공정
MEMS / NEMS 패턴 형성 및 lift-off 전 공정
MEMS / NEMS 패턴 형성 및 lift-off 전 공정


박막 증착 및 식각 공정
비금속의 절연 박막 ( 산화막, 질화막, 유전박막 등 ) 증착 및 건식 식각 구조물 형성
비금속의 절연 박막 ( 산화막, 질화막, 유전박막 등 ) 증착 및 건식 식각 구조물 형성

소자 특성 측정
자체 제작 시편으로 접촉 / 비접촉 / 전기적 특성 / 이미지 측정 및 분석
자체 제작 시편으로 접촉 / 비접촉 / 전기적 특성 / 이미지 측정 및 분석

습식 세정 공정
화학약품 이용, 시편 표면 세정 및 습식 식각
화학약품 이용, 시편 표면 세정 및 습식 식각
