양자팹 소개

조직

국가 양자팹 인프라 사업 운영위원회

정일석 (위원장)
권민석 (운영위원)
김제형 (운영위원)
박기복 (운영위원)
이종원 (운영위원)
서관용 (연구장비교육·지원처장)
이경선 (공정가공지원팀장)

분과 별 전문 Staff

구분 성명 대표장비
박막 김형일 Sputtering system(DC, RF, HSC)
강해라 LP-CVD(Poly/Nitride, TEOS), Furnace(Wet, Dry), PECVD, AFM
김보성 E-beam evaporator, ALD, PECVD
식각 김강오 ICP Etcher, RIE(Metal, Dielectric), CCP etcher, RTP, Surface profiler
김민재 Dielectric ICP etcher, Metal etcher, FIB NX2000
이선진 Deep Si etcher, NLD etcher, Dicing Saw, CMP
포토 이루다 E-beam lithography(JEOL, NBL)
황은정 Laser lithography Probe station, Wire bonder, Photoresist Track system
이송희 E-beam lithography #attached, Mask aligner(MA6, MDA-400S)